45nm: EU fördert Forschungsprojekt

Die EG-Kommission wird ein neues integriertes Forschungsprojekt mit der Bezeichnung NANOCMOS fördern, um Europas Stellung bei Halbleiter-Technologien zu sichern. Das Projekt soll die Entwicklungen bei Materialien, Prozessen, Baustein-Architekturen und Verbindungstechniken vorantreiben.

Dadurch sollen mit künftigen Halbleitern neue Komplexitäts- und Leistungsbereiche erreicht werden. Die an dem Projekt beteiligten Partner wollen bis 2005 die Machbarkeit der 45-nm-CMOS-Logik-Technologie demonstrieren. Gleichzeitig sollen entsprechende Forschungsaktivitäten für die nächsten Technologiegenerationen mit 32- und 22-nm-Strukturen durchgeführt werden. Nach dem heutigen Kenntnisstand werden diese Geometrien als die Grenzen des Machbaren mit jetzt verfügbaren Technologien angesehen. Die Ergebnisse des NANOCMOS-Projektes sollen den Weg für komplett neue Anwendungen für die gesamte Informationsgesellschaft ebnen.

Die Partner an diesem Forschungsprojekt sind die drei größten europäischen Halbleiterhersteller Infineon, Philips und STMicroelectronics, sowie die beiden größten europäischen Technologie-Forschungslaboratorien (CEA Leti in Frankreich und IMEC in Belgien). Darüber hinaus sind drei Forschungslaboratorien der FhG (Deutschland), acht Forschungslaboratorien der CNRS (Frankreich) und ein Labor der Technischen Universität in Chemnitz, sowie die Firmen Ion Beam Services (Frankreich), ISILTEC (Deutschland) und Magwel (Belgien) beteiligt. ACIES Europe (Frankreich) wird Managementaufgaben in diesem Projekt übernehmen. Das Konsortium kann weitere Partner aufnehmen.

+ Weitere Details zum NANOCMOS-Projekt

Die erste Phase des NANOCMOS-Projektes wird auf eine Laufzeit von 27 Monate veranschlagt und ein enormes Forschungspotenzial nutzen. Neben den 24 Millionen Euro von der EU-Kommission werden die Partner in erheblichem Maße in eigene Forschungs- und Entwicklungsleistung investieren, um die gesteckten Ziele zu erreichen.

Darüber hinaus werden die beteiligten Partner einen Vorschlag für die zweite Phase des NANOCMOS-Projektes, die ab 2006 beginnen soll, bei der EU-Kommission einreichen. Diese Phase hat das Ziel, die Machbarkeit der 32- und 22-nm-Generationen zu zeigen. Außerdem wird das Konsortium der MEDEA+-Organisation einen Vorschlag unterbreiten, ab 2006 mit der Integration und Validierung der 45-nm-Technologie in einer 300-mm-Wafer-Fertigung zu beginnen. Diese industrielle Fertigung soll in Crolles2 implementiert werden, einer gemeinsamen Pilotanlage von Motorola, Philips und STMicroelectronics. Die beiden Folgeprojekte sind in die komplette NANOCMOS-Strategie integriert und wurden bereits mit den Verantwortlichen der EU und MEDEA+ diskutiert.

Ergänzend zu NANOCMOS hat die EG-Kommission auch ihre Unterstützung für das vom CNRS geführte „Network of Excellence“ (SINANO) zugesagt. Dieses „Netzwerk“ ist in hohem Maße komplementär zu NANOCMOS und umfasst die meisten öffentlichen europäischen Forschungslabors im Bereich neuartiger Bauelemente. Zusammengenommen stellen NANOCMOS und SINANO eine leistungsfähige Kombination aus Forschung und Industrie dar, die für eine schnelle Umsetzung der Forschungsergebnisse in die Fertigung Integrierter Schaltungen (ICs) sorgen wird.

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