News IBM Research: Erste funktionierende 7-Nanometer-Chips hergestellt

2020 könnte es was werden

ist dieses 7nm denn wirklich 7nm oder auch nur ein marketingprozess?
 
Marketing oder nicht, es geht voran! Sehr gut. Diese Investitionen sind "nie" falsch.
 
Sicherlich Marketing. Werden die aktuellen Intel-prozessoren nicht in ~40nm gefertigt? 7nm wäre dann sehr weit davon weg.
 
Die aktuellen Intel (Haswell) werden in 22nm hergestellt bzw. ist schon die nächste Generation (Broadwell) in 14nm lieferbar.
Von da her ist man von 7nm nicht mehr allzu weit weg.
 
onkel_axel schrieb:
ist dieses 7nm denn wirklich 7nm oder auch nur ein marketingprozess?

Habe es so verstanden, dass der eigentlich Abstand 30nm beträgt:

Silizium-Germanium im Transistor-Kanal, Verbesserung des Transistorabstands auf unter 30 Nanometer und die Extrem-Ultraviolett-Lithographie

Interessant fand ich den vorletzten Satz:

Im Fokus des Forschungsprogramms stehen unter anderem Prozessoren mit geringer Strukturgröße von sieben Nanometern und weniger herzustellen.

Dachte bei 7nm sei Schluss? Oder waren das 5nm?
 
Das bei 7nm Schluss ist bezog sich wahrscheinlich auf echte nm und nicht diese künstlichen Angaben.
 
KnolleJupp schrieb:
Die aktuellen Intel (Haswell) werden in 22nm hergestellt bzw. ist schon die nächste Generation (Broadwell) in 14nm lieferbar.
Von da her ist man von 7nm nicht mehr allzu weit weg.

Das sind nur interpolierte Angaben, heißt die Prozesse sind so gut wie zb. ein planarer 14nm Prozess wäre.
 
http://www.golem.de/news/fertigungstechnik-der-14-nanometer-schwindel-1502-112524.html

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@Shaav

Wenn unter der Tabelle ein Intel-Logo prangert, ist das ganze ein bisschen... naja... kritisch zu betrachten. Das gilt generell für alle Halbleiterhersteller.
 
ja,solche angaben sind immer mit vorsicht zu genießen. aber erstaunlich finde ich wie gut samsung hier ausschaut.


gruß
 
AMDforever schrieb:
Das bei 7nm Schluss ist bezog sich wahrscheinlich auf echte nm

nö, das bezieht sich immer darauf, wo man sich sicher ist, dass man das in x Jahren Produzieren kann.
Schau mal nach News von vor 5 Jahren, da kommen 7nm nicht vor.

Genauso wird man in ein paar Jahren von <1nm hören.
 
Na mit den reinraumvorschriften nimmt es IBM ja net so dolle auch wenn das Foto bei der säge aufgenommen wurd
 
Quatsch, von 7nm ist schon länger die Rede. Vllt keine 5 Jahre, aber ich finde genug News von 2011. Es war damals aber schon klar, dass man hierfür die EUV-Lithografie benötigen wird.

Danach werden die Steps aber wesentlich kleiner, z.B.: 7->5->3. Wobei sie natürlich prozentuell gesehen nicht sooo klein sind.

Laur Fudzilla kann von dem Know-How auch GloFo profitieren, da die da mitgearbeitet haben. Mal sehen ob man hier langfristig Intel mal den Rangablaufen kann was Prozesstukturen anbelangt.
http://www.fudzilla.net/news/processors/38193-ibm-delivers-7nm-to-gloflo
 
kleiner 1 nm wird es wohl nicht geben da Quanteneffekte eine immer größere Rolle spielen und die mit derzeitigem Mitteln nicht in den Griff zu kriegen sind.
 
Wolfsrabe schrieb:
@Shaav

Wenn unter der Tabelle ein Intel-Logo prangert, ist das ganze ein bisschen... naja... kritisch zu betrachten. Das gilt generell für alle Halbleiterhersteller.

Wenn man das kritisch betrachten möchte, sollte man sich aber auch darüber informieren ob diese wirklich kritisch zu betrachten sind. Denn es gibt durchaus reale Werte die von Firmen veröffentlicht werden.

Die Werte (Intel) auf dem Präsentation wurde durch Chipworks selbst bestätigt:

As announced back in August, fin pitch is reduced to 42 nm, contacted gate pitch to 70 nm, and 1x metal to 52 nm, and we confirmed these on the Broadwell chip that we pulled out of a Panasonic laptop. In addition to the fins, the gates and the minimum metal levels use SADP, making for complex front-end lithography.

Quelle: http://chipworksrealchips.blogspot.de/2014/12/iedm-monday-was-finfet-day_18.html


r4yn3 schrieb:
Quatsch, von 7nm ist schon länger die Rede. Vllt keine 5 Jahre, aber ich finde genug News von 2011. Es war damals aber schon klar, dass man hierfür die EUV-Lithografie benötigen wird.

Die 7nm wird Intel wohl doch noch ohne EUV schaffen, wenn man den Herrn Bohr wie immer trauen kann.

Quelle: http://www.extremetech.com/computing/190845-intel-forges-ahead-to-7nm-without-the-use-of-euv-lasers
 
Zuletzt bearbeitet:
Hab ich gelesen, aber Zitat aus dem Artikel: "… We would like to have EUV for 7nm, but I can’t really count on that. So we are also exploring the option of a non-EUV version of 7nm. It looks doable."
Klingt eher nach "auf Nummer sicher gehen, sollte unsere EUVL Technik nicht rechtzeitig fertig werden".

Zudem ist der Artikel knapp ein Jahr alt. Wie es dann wirkli realisiert wird kann man sich immer noch anschaun wenn es dann soweit ist. ~2017.
 
Ich zitiere widerum den Artikel: "Intel betonte dazu noch einmal, dass die 7-nm-Fertigung auch ohne die EUV-Lithografie möglich sein wird." Zuversichtlich klingt für mich anders, bzw. zufrieden mit der non-EUV Entwicklung.
Es ist mehr ein "wir müssen leider".

Wie gesagt, einfach abwarten. Es dauert noch Jahre bis hier Produkte erscheinen. Da ist es mMn sinnlos jetzt schon hier herum zu spekulieren.
 
r4yn3 schrieb:
Ich zitiere widerum den Artikel...

Dann aber auch die richtige Aussage und nicht was Computerbase dann übersetzt:

In a conference call with reporters, Bohr said that Intel believes that the current pace of semiconductor technology can continue beyond 10nm technology (which we would expect in 2016) or so, and that 7nm manufacturing (in 2018) can be done without moving to expensive, esoteric manufacturing methods like extreme ultraviolet lasers.

Quelle: http://www.pcworld.com/article/2887275/intel-moores-law-will-continue-through-7nm-chips.html


Dann sieht es auch nicht mehr negativ aus sondern als großer Vorteil.
 
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