HMOS bezeichnet eine Technologie-Generation und ist ein Akronym für das englische high-performance MOS (engl. für Metall-Oxid-Halbleiter). HMOS findet in integrierte Schaltkreise hoher Packungsdichte mit NMOS-Technik Anwendung.
| Generation | Einführung | Kanallänge | Gatterverzögerung |
|---|---|---|---|
| HMOS I | 1976 | ≈3 µm | 100 ns |
| HMOS II | 1979 | ≈2 µm | 30 ns |
| HMOS III | 1982 | ≈1,5 µm | 10 ns |
Quelle[1]
Zuvor waren Strukturgrößen von 6 µm bis 10 µm etabliert.