6. Mai 2008, 14:34

Die Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur (engl. metal insulator semiconductor, kurz MIS) bildet die Grundlage für eine Vielzahl von Bauelementen in der Mikroelektronik, z. B. MOS-Transistoren, CCD-Sensoren), aus welchen sich wiederum erweiterte Anwendungen ergeben, z. B. Mikroprozessoren.

Als Isolatoren werden derzeit hauptsächlich Siliciumdioxid und Siliciumnitrid verwendet. Wird als Isolator ein Oxid (z. B. Siliziumdioxid, SiO₂) verwendet, spricht man auch von MOS-Strukturen. Typische Beispiele sind der MOS-Kondensator und der MOS-Transistor.

Die Struktur bestehend aus einem Träger (meist reines Silizium) und einer darüber befindlichen Metallschicht. Diese beiden Schichten werden durch eine dünne Isolatorschicht getrennt. Es bildet sich ein Kondensator.

[Bearbeiten] Weblinks

• Genaue Erklärung der MOS-Struktur

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