6. Dez 2007, 08:52

Novolak (fälschlicherweise oft Novolack) ist ein Phenolharz mit einem Formaldehyd-Phenol Verhältnis kleiner als 1:1. In der Regel ist Novolak thermoplastisch, es können jedoch Zusätze beigemengt werden (z. B. Formaldehyd oder Hexamethylentetramin), die zusätzliche Bindungen ermöglichen. Dieses ergibt dann ein unschmelzbares Produkt (Duroplast).

Kombiniert mit fotosensitiven Substanzen, wie beispielsweise DNQ), wird Novolak in der Mikroelektronik und Mikromechanik zur Fotolithografie als Fotolack eingesetzt. Nach Belichtung und Entwicklung bleibt eine strukturierte Lackoberfläche übrig, die das Substrat vor dem nächsten Prozessschritt (z. B. Ionenimplantation, galvanisches Aufwachsen von Metall, thermische Oxidation, Ätzen etc) schützen.

Novolak wird in der Regel durch einen Spin Coater auf ein Substrat aufgeschleudert und es können Resistdicken bis hin zu einigen µm erreicht werden. Für größere Schichtdicken ist Novolak ungeeignet. Dort empfiehlt sich PMMA.

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• The Chemistry of Photoresists

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