News Meilenstein bei EUV Lithographie erreicht

Tommy

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#1
Intel hat zwei bedeutende Meilensteine auf dem Weg zur Herstellung zukünftiger Mikroprozessoren unter Verwendung der EUV-Lithographie (Extreme Ultra Violet) erreicht. Das Unternehmen nahm die weltweit erste kommerzielle EUV Lithographie Anlage in Betrieb und richtete eine Pilotanlage zur Produktion von EUV Masken ein.

Zur News: Meilenstein bei EUV Lithographie erreicht
 

BluntZ

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#2
Edit: der vorherige comment wurde schon gelöscht...
Und wieder ein hochqualifizierter kommentar, glückwunsch o.O
 
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#3
Genial,

schon krass 32 / 30 / 15(!!) nm. (für heutige Zeiten vesteht sich)

Mal abwarten, wie sich das entwickelt, aber

Weiter so Leute

Gruß
Mortiss
 

Jirko

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#4
deejaykonny, ich weiß nicht, welchen Gefildden du entsprungen bist, aber hier läuft der Haase etwas anders. Ich werde nochmal Rücksicht walten lassen, weil du ein Neuling bist, aber derlei Kommentare brauchen wir hier nicht.

Du kannst dich zwischen mehr Qualität oder mehr Zeit, über die Posts nachzudenken, entscheiden. Letztere schenke ich dir gratis, wenn du es drauf anlegst.

Edit: sorry Silver. Ich konnte den Mist schlichtweg nicht überlesen. Ist bei den Fischen! [olly]edit end
 
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<LORD>

Lt. Commander
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#5
Er hat ja in gewisser Weise recht aber der Kommentar passt wohl kaum zu diesem Thema. Kann man als Mod. solche unsinnigen Kommentare nicht einfach löschen? Scho geil das die Strukturen kleiner werden aber wie stehts eigentlich bei AMD mit der Entwicklung von neuen Lithographieverfahren. Irgendwie sind die ja immer noch nicht auf 90nm umgestiegen. Intel hat das schon längst. Die schaffens in der Entwicklung fast immer weiter zu sein, bzw. denken und stellen Hoffnungen an die Zukunft. War schon beim P4 so der ja auf hohe Taktraten ausgelegt ist unddeswegen am Anfang sogar langsamer war als der P3.
Übrigens: Falls sich das jetzt so angehört hat, ich mag Intel nicht, ich bin AMD-Jünger. Ich zolle ihnen nur unparteiisch etwas Respekt.
 
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#6
Ich finde diese Fortschritte auch genial. Vor allem überrascht es mich immer wieder, wie sich diese Entwickler / Ing. / Wissenschaftler immer neue Ideen einfallen lassen, soetwas zu realisieren, denn sowas wird ja sicherlich nicht aus dem FF gemacht.
Hoffentlich hab ich auchmal solche ideen :p

mfg
doggy
 
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#7
Naja, EUV ist ja an sich nix neues, wird schon seit Jahren betrieben. Das Neue ist ja de Herstellung der zugehörigen Masken!

Auch AMD wird früher oder später mit EUV arbeiten (müssen). Immerhin werden die neuen Produktionstechniken nicht allein von Intel gemacht, sondern von großen Konsortien. Selbst Intel kann es sich nicht leisten soetwas komplett selbst zu entwickeln. Das ist aber eine andere Frage...

@TSHM Quantencomputer werden auch nicht extrem viel schneller sein! Auf ihnen lassen sich aber deutlich bessere Algorithmen zum laufen bringen. Das bringt den eigentlichen Vorteil (und den deutlichen "Geschwindigkeitszuwachs"). Bis jetzt schafft man es nur schwer vernünftige QBits zu machen. Also noch ein weiter Weg!
 

Bokill

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#8
Das wird intel sich etwas kosten lassen.

Die "Tools" vom Hammer bis zum Stepper (Belichtungseinheit für die Wafer) sind ja nicht billig.

Erst Recht nicht, wenn sozusagen die Prototypentools gekauft werden. Da intel aber genügend dicke Taschen hat, können sie sich das "locker" leisten.

Dadurch werden die Tools auch für andere (irgendwann) "billiger" ...

Internationales herstellerübergreifendes Konsortium
Das EUV Konsortium selber hat aber viele andere Mitglieder, auch AMD sowie Infineon und und und ...

N gewisses Kompilat zum EUV-Konsortium ist in einem anderen Forum ( P3D )zu lesen ... Doch das Ende und es gibt doch eine Zusammenarbeit von AMD mit Intel

Bedeutung der Masken
Bedeutend ist die Meldung schon. Mit EUV werden wieder billigere Masken möglich. So nett PhaseShifting Masken sind (sie ermöglichen feinere Strukturen mit eigentlich viel gröberen Licht) . PhaseShifting íst teurer.
Mit PhaseShiftMasken kann beispielsweise mit Licht von 0,13µm noch eine Strukturbreite von wesentlich weniger als 0,13µm geschaffen werden (praktische Anwendung der Quntenphysik).

Lichtbillard
Das ist in etwa vergleichbar mit dem Bild, Billard mit Baumstämmen und Murmeln spielen zu wollen, natürlich mit Fäustlingen.
Nun ist, dank EUV wenigstens, der Baumstamm wieder etwas kleiner geworden ;)

Darauf hat die ganze IT-Industrie gegeiert, endlich Tools (Werkzeuge) für superfeine Strukturen jenseits von 0,065µm !

Strahlung und Werkstoffe
Eines ist aber auch vermutlich anzunehmen, mit zunehmender Energie der Strahlung, werden die Materialien für die Masken auch nicht billiger werden. EUV könnte man auch mit "sanfter" Röntgenstrahlung gleichsetzen.
Auf Dauer hält dies kaum ein Werkstoff aus.
Kosteneinsaparungen an dieser Stelle sind daher besonders wichtig.

Wenn überhaupt etwas ruuuuuult, dann EUV ... nun geht das Shrinking auf Si-Basis weiter ... endlich

MFG Bokill
 
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LeChris

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#9
Möchte nur mal wissen, was für eine Strahlungsquelle zum Einsatz kommt. Die ollen gepulsten sind ja kaum praktikabel. Hat da etwa wer irgendeine "supergeheime-uber-kohärente-UV-Strahlungsquelle" gebastelt?
 
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#10
@Bokill
Es hat ja auch keiner behauptet, dass Intel und AMD zusammenarbeiten werden. :D
Phasenkonjugation ist ja an Sich ein alter Hut. Man braucht es monentan halt. Wie will man sonst mit einer 193nm-Quelle (KrF) bis zu einer Strukturgröße von 65nm kommen... Das ist ja nicht der einzige Trick, denn man verwendet.

Was für eine Strahlungsquelle da verwendet wird, würde ich auch gern genauer wissen. Das werden die aber erst rausrücken, wenn alles glatt läuft, wenn überhaupt.
 

pimp0r

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#11
Weiß gar nicht was die Meldung mit intel vs AMD zu tun hat !

Ich bin schon gespannt auf die Dual Core CPUs da wären 0,65 nm nicht schlecht (für einen Core versteht sich)
 

Suicide King

Lt. Junior Grade
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#12
Es ist doch eigentlich immer so. Wenn in einer news Intel bzw. AMD steht, dann dauert es nicht lange und der "Krieg" geht schon wieder los. Siehe dazu auch den ersten post. Ist ein sehr gutes Beispiel.
Das selbe gibt es dann auch immer wieder zwischen nVidia und ATI.
 

xLoMx

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#13
@Bokill

die EUV masken sind sehr sehr viel teurer als die heutigen masken, denn 13,5nm sind röngtenstrahlung und das durchdringt die meisten werkstoffe, das wird nurnoch an atomkernen gebeugt. Linsensysteme sind bei EUV nicht mehr möglich als diesen grund greift man auf spiegel zurück. aber röngtenspiegel gibt es nun auch nicht an jeder ecke. deswegen greift man auf das beugen zurück, damit ist es möglich "spiegel" herzustellen (zu teuer). jetzt hat man das problem das die heutigen "spiegel" nicht richtig spiegeln. aus diesen grund brauchen die lampen richtig leistung, was bei EUV nicht gerade leicht ist.
Die Masken sind jetzt auch spiegel die nur an bestimmten stellen spiegeln. diese masken müssen auch vielen hoch prezisen schichten bestehen, die dann auch noch lateral struckturiert sind (sau teuer)
Die Wellenlänge kommt nicht von ungefähr, bei ca.13nm ist ein Wasserfenster, so muss man die lithographieanlage nicht evakuieren.

@götterwind
freu mich von die zu hören :)

Die lichtquellen sind bogen-hochdrucklampen.
http://www.innovations-report.de/html/berichte/physik_astronomie/bericht-1690.html
Die Lampen sind schon abenteuerlich.
Durch den sehr hohen strom schnürt sich die entladung selbst ein, aus diesen grund wird der effekt der positiven säule verstärkt, was wiederum zu heißerem plasma und mehr licht (energetisch und intensiever) führt.

die sollten sich einen teilchenbeschleuniger hinstellen dann können die synchrotron-strahlung verwenden die ist viel besser wie jede bekannte lichtquelle. ist nur etwas teuer :)
 

Bokill

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#14
@xLoMx
Wie teuer wären dann PhaseShifting Masken? ;)

Keine Frage, die Röntgenstrahlen sind invasiv.

Man hat aber derzeit Probleme zu skalieren, wenn quasie immer die gleiche Welllänge genommen wird(0,193µm), es wird immer schwieriger mit verfeinerter Maskentechnik.

Nachtrag:
@BaxTec2k2
Die wesentlich geringere Wellenlänge ist so etwas wie ein Dammbruch. In den letzten Jahren verharrte man bei 0,193µm ... nun ist eine Tür für kleinere Wellenlängen geöffnet worden.

Aber xLoMx sprach es schon an ... dafür handelt man sich andere Probleme ein. Linsen waren mal. Die Stepper von heute haben wirklich nichts mehr mit den Kameraaufbau früherer Jahre zu tun.

Und Massenfertigung ist dies noch lange nicht. Intel war nun aber bereit zumindest eine Teststrecke unter Realbedingungen zu installieren. Das verschafft einen echten Informationsvorsprung zu den anderen Mitbewerbern.

Fertigungstechnologie ist nach meinem Empfinden nahe dran an Grundlagenforschung und der praktischen Umsetzung, ...

EUV ist da nun ein deutlich weiterer Schritt ... das Shrinking- Spiel kann nun mit deutlich geringeren Wellenlängen weitergehen

MFG Bokill
 
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BaxTec2k2

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#15
Kann mir jemand die Aussage des Mitarbeiteres: "Die EUV-Technik wird uns helfen, auch im kommenden Jahrzehnt von den Vorteilen des Moorschen Gesetzes profitieren zu können." erklären? Welche Vorteile hat das Moorsche Gesetz? Soweit ich weiß, besagt es doch nur, dass sie sich die Leistungsfähigkeit und die Anzahl der Transistoren alle 18Monate oder 2Jahre verdoppeln.
 

Khaan

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#16
schöner artikel.....RESPEKT :daumen:

Obwohl viele hier im Forum sicher den wesentlichen Inhalt nicht verstehen werden :rolleyes:
 
S

spiro

Gast
#17
Zitat von BaxTec2k2:
Kann mir jemand die Aussage des Mitarbeiteres: "Die EUV-Technik wird uns helfen, auch im kommenden Jahrzehnt von den Vorteilen des Moorschen Gesetzes profitieren zu können." erklären? Welche Vorteile hat das Moorsche Gesetz? Soweit ich weiß, besagt es doch nur, dass sie sich die Leistungsfähigkeit und die Anzahl der Transistoren alle 18Monate oder 2Jahre verdoppeln.
Nun, ich denke, dass Intel damit meint, eben dieses weiterhin umsetzen zu können.
In mehreren kleinen Schritten versteht sich, man will schließlich verdienen. ;)

Zitat von Khaan:
Obwohl viele hier im Forum sicher den wesentlichen Inhalt nicht verstehen werden:rolleyes:
Die könnten dann ja auf dein - hoffentlich fundiertes Wissen zurückgreifen... :cool:
 
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#18
@BaxTec2k2
Er meinte sicherlich sicherlich, dass man das Moor´sche Gesetz wieder sicher einhalten kann. Bis jetzt hat es sich ja interessanterweise bewahrheitet...

@xLoMx
Freue mich auch, was mal wieder von dir zu lesen :D
Danke, für den Link!
Transmitive Optiken sind schon lange nicht mehr in Benutzung. Auch wenn man für die Litographie nicht so extrem hohe Intensitäten braucht, machen Linsen ruck zuck schlapp... Das ist auch der Nachteil der ganzen EUV-Optiken, da man mit der Quasi-Röntgenstrahlung irgendwann alles zerlegt. Die Optiken für EUV haben einen Reflektionsgrad von rund 70%.

Es wird sich aber trotzdem im Vakuum alles abspielen. Man hat bloß nicht ganz so extreme Probleme mit dem Wasser.

Wie in den Paper dazu steht, sind die Lichtquellen an sich Hohlkathoden (oder so ähnlich zu diesen). Eine Hochdruck-Bogen-Lampe bei diesen Bedingungen lebt meist nicht lange, oder?!

Ja, die Idee mit den Beschleunigern ist schon einigen gekommen - wie du schon gesagt hast, extrem teuer. Was man auch machen könnte ist Elektronenstrahllito., was aber auch sehr teuer ist und schwierig ("langsam" ist es auch noch). Ich würde mir ja gern einen Freie-Elektronen-Laser als Lichtquelle gern vorstellen... Wäre echt lustig, da damit theoretisch jede Wellenlänge anvisierbar ist - geil sag ich da nur!

Ach so, ein wirklich Netter Artikel versteckt sich unter
www.physik.uni-osnabrueck.de/kbetzler/sos/physikjournal/euvlitho.pdf
Ich glaube darin steht alles wesentliche! Ich bin auch am IOQ in Jena... ;)
 
Zuletzt bearbeitet: (hohlkathdoden)
M

MacGyver

Gast
#19
Man bedenke aber auch: Mehr Transistoren = mehr Leistungsaufnahme = mehr Abwärme
Dazu kommen noch die höheren Taktraten, die damit zweifelsohne möglich sind.

Ich finde diese Entwicklung ziemlich besorgniserregend. Anstatt neue Möglichkeiten der Chipproduktion zu erforschen werden die vorhandenen bis zum absoluten Ende ausgelutscht.

Bin mal gespannt wann der erste 250 Watt Prozessor mit 500 Mio. Transistoren und einem 5 kg Kupferkühler kommt.
 
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#20
@MacGyver
Nur mit einer höheren Transistordichte pro Chip lässt sich der Preis erträglich halten. Nur so konnte sich der Preis eines Transistor bis heute auf 1 Milliardstel des Preis des ersten Transistors verringern! (ich weis, ist ´ne Milchmädchenrechnung ;))

Du musst aber auch daran denken, dass kleinere Strukturen besser zu schalten sind, da viel weniger Ladungen bewegt werden müssen!

Mal als Gegenfrage : Wo siehst du neue Wege in der Chipprod? Alle sinnvollen Inovationen werden (sobald großtechnisch realisierbar) umgesetzt (Wertbewerbsvorteil gegenüber der Konkurenz).

Nochmal zu den Lichtquellen: Ich meinte als Bogenlampe in der Bemerkung sowas wie eine Kohle-Bogen-Lampe als extremes Gegenbeispiel.
 
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