Rayn
09.03.2001, 19:22
Den Entwicklern bei Intel ist die Produktion von Photomasken für die Extreme Ultra Violet (EUV-)Lithographie gelungen. Diese Masken sind bedeutende Erfindungen für das EUV-Verfahren als zukünftige Lithographie-Generation für die Halbleiter-Industrie. mehr… (/news/2001-03/neues-verfahren-fuer-zukuenftige-chips-entwickelt/)