Massenfertigung von 450-mm-Wafern ab 2017

Nikon kündigt 450-mm-Wafer-Scanner für 2015 an

Nikon wird für die Research Foundation der State University of New York einen ArF-Immersions-Scanner produzieren, der 450 mm große Wafer herstellen kann. Die Maschine soll dem Global 450 Consortium (G450C) mit Hauptsitz am College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) zur Verfügung stehen.

Der Fokus der Belichtungsmaschine liegt im Bereich der Forschung und Entwicklung, die den möglichst reibungslosen Übergang von heutigen 300 mm großen Wafern auf die neuen 18 Zoll großen Scheiben mit 450 mm Durchmesser ermöglichen soll. Im Albany NanoTech Complex soll mit dem 450-mm-Immersions-Scanner unter anderem ein Demo-Bereich entstehen, der der Industrie die Möglichkeiten der neuen Technologie aufzeigen wird. Der Complex war bereits im Jahr 2004 ein Vorreiter für neue Technik, empfing die Wissenschaft dort doch den ersten für die Massenproduktion bereiten Immersion-Lithografie-Scanner und sorgte unter anderem dafür, dass bis Ende 2006 bereits 30 Geräte mit der neuen Technik im Masseneinsatz waren.

Die am G450C beteiligten Mitglieder, zu denen IBM, Intel, Globalfoundries, Samsung und TSMC gehören, sind nach bisherigem Stand die fünf großen IT-Unternehmen, die es sich überhaupt leisten können, in 450-mm-Wafer-Technologie zu investieren. Nikon hofft, dass mit dem neuen System, welches im April 2015 ausgeliefert werden soll, ein weiterer Schritt zur Massenfertigung der größeren Wafer gelegt werden kann.

Höhere Auftragseingänge für derartige Belichtungsmaschinen erwartet Nikon ab 2017, wenn die Massenproduktion mit den Scannern beginnen soll. Der große Konkurrent ASML, bei dem im letzten Jahr Intel, Samsung und TSMC eingestiegen sind, sprach zuletzt davon, dass 450-mm-Wafer ab dem Jahr 2018 in Serie vom Band laufen könnten.

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