ASML kauft Cymer für schnellere Entwicklung der EUV-Lithografie

Volker Rißka
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ASML hat als weltweit größten Fertiger von Lithografiesystemen in diesem Jahr schon mehrmals auf sich aufmerksam gemacht, haben doch Intel (15 Prozent), TSMC (5 Prozent) und Samsung (3 Prozent) Anteile am niederländischen Konzern erworben. Jetzt kauft dieser mit Cymer einen weiteren Spezialisten ein.

Der Kalifornische Hersteller Cymer ist spezialisiert auf die Herstellung der Lichtquellen, im einfachsten Sinne „Laser“ genannt. Mit diesem Know-How erhofft sich ASML die Beschleunigung der Entwicklung von EUV-Lithografiesystemen, bei denen der besagten Lichtquelle eine besondere Bedeutung zukommt. Denn von dieser „extremen“ ultravioletten Lichtquelle (EUV) mit einer Wellenlänge von 13,5 nm erhoffen sich nahezu alle Halbleiterhersteller den Gang in die Zukunft, werden damit doch erst kleinere Strukturen jenseits der 14 nm möglich.

Neben den zukünftigen Verfahrensweisen erwirbt ASML aber auch die aktuelle Produktionspalette rund um die DUV-Sparte, die hauptsächlich 193-nm-Lichtquellen für die aktuell im Einsatz befindliche Immersionslithografie herstellt, beispielsweise den XLR 600ix für die 32-nm-Fertigung.

ASML ist dies nach jahrelanger Zusammenarbeit mit Cymer letztlich insgesamt 1,95 Milliarden Euro wert. Die Transaktion soll im Laufe des ersten Halbjahres 2013 abgeschlossen sein.