Samsung Foundry: Neue 5-nm-EUV-Chipfabrik für Ende 2021 geplant
Samsung hat mit dem Bau einer neuen Fabrik für die Halbleiterfertigung in Südkorea begonnen. Ungewöhnlich schnell soll diese umgesetzt werden, was an der räumlichen Nähe zu bestehenden Komplexen liegt. Der Fokus auf die 5-nm-Fertigung inklusive der EUV-Lithografie soll den Standort zukunftssicher machen.
Nach zwischenzeitlichen Problemen im vergangenen Jahr aufgrund der Abhängigkeit von japanischen Zulieferern, die durch belastete Beziehungen nicht verfügbar waren und fast zum Herunterfahren von Produktionslinien geführt hatten, ist der seinerzeit gestoppte Kapazitätsausbau wieder auf dem zuvor geplanten Weg.
Investitionen in Forschung, Entwicklung und das Foundry-Geschäft
Die neue Produktionslinie, wie Samsung die Fabriken nennt, wird den bestehenden Standort in Pyeongtaek erweitern, der bereits jetzt zu einem von Samsungs größten zählt. Insgesamt wird Samsung mit der geplanten Anlage sechs 300-mm-Wafer-Werke und ein 200-mm-Werk an Standorten in Südkorea und den USA betreiben. Samsung plant für die kommenden Jahre große Investitionen in das Halbleitergeschäft, über 100 Milliarden Euro waren im vergangenen Jahr genannt worden, der Großteil davon in Forschung, Entwicklung und das Foundry-Geschäft. Hier will man den Anschluss an TSMC nicht verlieren.
Der Fokus rückt auf EUV in 5 nm und kleiner
EUV-Lithografie und auch 5 nm werden bei Samsung bisher noch in geringem Maße genutzt. In der Fabrikanlage in Hwaseong wurde im letzten Jahr zwar der Pilotprozess mit 7 nm und EUV aufgelegt, doch erst in der zweiten Hälfte dieses Jahres wird ein 5-nm-Prozess folgen. Mit dem Produktionsstart im anvisierten zweiten Halbjahr 2021 bereits in der neuen Fabrik in Pyeongtaek soll sich die EUV-Kapazität von Samsung Foundry laut Herstellerangaben „signifikant erhöhen“.
Beide Standorte werden damit in Zukunft fast im Gleichschritt gehen, wobei aktuell der Vorteil bei der ebenfalls noch sehr jungen bestehenden V1-Linie liegt. Für die V1-Linie in Hwaseong plant Samsung bereits seit langer Zeit mit dem 3-nm-Prozess, für die neue Linie Pyeongtaek heißt es in der Presseaussendung, dass sie für „5 nm und kleinere Fertigungstechnologien“ gebaut werde. Der gesamte Komplex in Pyeongtaek ist aber ebenfalls nicht alt, erst ab 2015 wurde er als „weltgrößte Fertigungsstätte für Halbleiter“ errichtet.