ASML-Quartalszahlen: Nachfrageboom führt dieses Jahr zu >60 EUV-Systemen

ASML spürt die hohe Nachfrage im IT-Bereich. So soll die EUV-Scanner-Fertigung dieses Jahr auf über 60 Einheiten hochgeschraubt werden, für das kommenden Jahr 2027 wären mindestens 80 Einheiten denkbar – nach 48 im Jahr 2025. Diese Aussagen decken sich mit dem, was beispielsweise Speicherhersteller kürzlich bestellt haben.

EUV übernimmt bei Speicherherstellern

EUV-Systeme werden bei Speicherherstellern immer wichtiger. So sind es die Details im ASML-Bericht, die genau dies auch zeigen: Die Hälfte des Umsatzes wurde mit Speicherherstellern gemacht, dazu kam auch noch 45 Prozent des Umsatzes aus Südkorea. Hier braucht es angesichts der riesigen (neuen) Fabriken von Samsung und SK Hynix kein Genie, um zu ermitteln, an wen die Systeme letztlich gingen.

Und es sind vor allem die Großbestellungen von dort, die auch ASML frohlocken lassen. Bei SK Hynix sind das wohl mindestens 20 Systeme, die schon bis Ende 2027 geliefert werden sollen, auch bei Samsung ist von einem ganz ähnlichen Auftrag in südkoreanischen Medien die Rede.

Dabei nutzt ASML auch jede Möglichkeit, um die Leistungsfähigkeit der Systeme zu optimieren und so auch noch etwas mehr Geld von den Kunden verlangen zu können. Das aktuelle EUV-Systeme NXE:3800E wurde in der Produktivität auf 230 Wafer pro Stunde verbessert, der für 2028 im Serieneinsatz geplante Nachfolger NXE:3800F soll gar über 260 Wafer pro Stunde belichten. Da die Systeme bei ASML stets aufrüstbar sind, kommen auch Bestandskunden in diese Vorzüge. 330 Wafer pro Stunde werden dank stärkeren Lasern erst mit Geräten der 4000er-Generation erreicht, die im Serieneinsatz ab 2031 geplant ist, bestätigte ASML heute.

DUV zieht nach China-Einbruch wieder an

Nachdem die Immersionslithografie in Form von DUV-Systemen im letzten Jahr einen starken Einbruch erlebte, soll die Nachfrage nun wieder anziehen. Bis zum Beginn des Jahres 2025 hatte China den größten Anteil an den Verkaufszahlen, im Gesamtjahr 2024 machte ASML 41 Prozent seines gesamten Umsatzes in China. Da EUV-Systeme davon bereits komplett ausgenommen waren und diese wiederum auch einen ähnlichen Anteil am Umsatz ausmachten, hieß das, dass China nahezu alle DUV-Systeme abgenommen hat.

High-NA weiter im Fahrplan

Auch wenn die Entwicklung von High-NA-EUV angesichts der Optimierungen der bestehenden Lösungen etwas aus dem Rampenlicht verschwindet, geht sie doch unvermindert weiter. Im Rahmen von Konferenzen in den letzten Wochen aber auch heute noch einmal betont ASML die Vorzüge. High-NA-EUV reduziert die Anzahl der benötigten Masken von 3 auf 1, in der Fertigung sinkt die Anzahl der Produktionsschritte von 100 auf 10. Das ist durchaus signifikant, denn jeder zusätzliche Schritt kann Auswirkungen auf die Ausbeute haben, natürlich ist die Fabrik auch viel wirtschaftlicher, wenn nur zehn statt 100 Schritte benötigt werden. High-NA-EUV ist deshalb bei jedem großen Chiphersteller in einer Form der Erprobung und soll laut ASML zur „Prime Time“ in Form kleinerer Strukturen bereit für den Serieneinsatz sein.

Leichtes Umsatzwachstum ohne Angabe von Neubestellungen mehr

Zusammengefasst hat ASML im ersten Quartal 2026 so 8,8 Milliarden Euro Umsatz gemacht und dabei 2,8 Milliarden Euro Nettogewinn erzielt, nach 7,7 Milliarden Euro Umsatz vor einem Jahr und 2,7 Milliarden Euro Gewinn. Nachdem sich Analysten zuletzt stets auf die extrem zyklischen Angaben der Neubestellungen eingeschossen hatten – und ComputerBase diese bereits als wenig zielführend ansah – hat ASML diese nun wie angekündigt im Quartalsbericht gestrichen. Aus den Angaben wurde ASML dabei nämlich oft sprichwörtlich ein Strick gedreht, obwohl dort gar kein echtes Problem vorlag. Für das aktuelle zweite Quartal erwartet ASML ganz ähnliche Geschäfte.