Foundry: Samsung startet Produktion von 7-nm-Chips mit EUV

Volker Rißka 25 Kommentare
Foundry: Samsung startet Produktion von 7-nm-Chips mit EUV
Bild: Samsung

Samsung hat die Produktion von 7-nm-Chips unter Nutzung von EUV-Lithografie gestartet. In den kommenden Monaten soll diese hochgefahren werden und verspricht deutliche Vorteile gegenüber den Vorgängergenerationen. Die ersten Einsatzgebiete sind Smartphone-Chips.

Samsungs Angaben zum exakten Produktionsstand sind vage, ebenso wie der Ausblick auf die Vorteile der Fertigung. Die Pressemitteilung spricht davon, dass die Entwicklung des Prozesses mit dem Codenamen 7LPP (7nm Low Power Performance) abgeschlossen sei und nun die Produktion beginnt. Damit ist höchstens die anfängliche Serienfertigung gemeint, vom Status der Massenfertigung ist Samsung jedoch noch entfernt. Dieser Stand wird in den kommenden Monaten erreicht werden.

Am Ende dürfte es beim Einsatz der EUV-Lithografie in der Serienfertigung auf ein Kopf-an-Kopf-Rennen mit TSMC hinauslaufen. TSMC hatte kürzlich vermeldet, erste Produkte in 7 nm mit Nutzung von EUV fertiggestellt zu haben, legt den Fokus nun aber auf 5 nm mit EUV, das ab dem Frühjahr 2019 in die Risikoproduktion gehen wird.

Samsung vergleicht 7LPP mit altem Prozess

Auch die versprochenen Vorteile der neuen Fertigungsstufe 7LPP werden bestmöglich ausgelegt. Sie werden mit 10LPE verglichen, also dem ersten 10-nm-Prozess, nicht aber dem zweiten Prozess dieser Generation (10LPP), der bereits deutliche Vorteile mitbrachte und vor einem Jahr in die Serienfertigung überging. Die Vergleiche von 7LPP mit 10LPE mit 20 Prozent mehr Leistung halbieren sich beim Vergleich mit 10LPP auf zehn Prozent, statt 50 Prozent weniger Leistungsaufnahme sind es dann noch 35 Prozent. Lediglich die Flächenskalierung bleibt mit 40 Prozent Zuwachs identisch. Zudem hat Samsung mit 8LPP noch einen weiteren Zwischenschritt, der besser als 10LPP ist.

10LPE zu 7LPP
10LPE zu 7LPP (Bild: Samsung)

Die Vorteile der EUV-Belichtung werden aber auch bei Samsung noch nicht in vollem Maße genutzt. Erst einige der Layer eines Chips werden mit EUV belichtet, eine Art Zwischenstufe zwischen klassischer Immersionslithografie und reiner EUV-Lithografie. Diese wird in der nächsten Generation an Chips zum Einsatz kommen, ASML bereitetet dafür gerade verbesserte Scanner vor, die Samsung unter anderem in der S3 Fab in Hwaseong, Korea, unterbringen wird. Die Fabrik erweitert der Hersteller aktuell um eine zusätzliche EUV-Linie.