LadyAlice schrieb:
Was ASML betrifft, hoffentlich schaffen die Chinesen das. Wäre großartig wenn durch chinesische Fertiger die Preise runtergehen und die Innovation steigt. Klar ist jetzt alles noch Kopieren, aber wer sich mal mit China beschäftig hat, weiß auch, dass das in China zu Fortschritt führt.
Das verstehe ich jetzt auch nicht, inwiefern kann es sein das niedrige Preise und daraus folgen niedriger Gewinn gut für den Fortschritt ist? Vom Illegalen Kopieren mal ganz abgesehen, Stichwort Patente und Schutz des geistigen Eigentum?
Ach so noch was, alle bitte sachlich bleiben und nicht so arg polemisieren bitte, bleibt beim Thema.
Das sagt übrigens die M365 KI dazu:
Wie sich
ASMLs High‑NA-EUV-Technologie von den chinesischen Prototypen unterscheidet:
Numerische Apertur (NA): 0,55 (High‑NA)
Strukturgrößen: < 2 nm möglich
Belichtungswellenlänge: 13,5 nm (EUV)
Optik Komplexe Spiegel von Zeiss, extrem präzise
Produktionsstatus: Serienfertigung für führende Foundries (TSMC, Intel, Samsung)
Integration: Voll kompatibel mit EUV-Ökosystem, inkl. Resists und Maskentechnik
Kosten:> $300 Mio. pro Maschine, aber mit hohem ROI für High-End-Chips
CN
Numerische Apertur (NA): < 0,33 (Standard-EUV-Niveau)
Strukturgrößen: Zielbereich 7 nm bis 5 nm, aber noch nicht in Massenproduktion
Belichtungswellenlänge: 13,5 nm (EUV), jedoch mit geringerer Stabilität
Optik: Eigenentwicklungen, aber ohne Zeiss-Qualität – Probleme bei Spiegelpräzision
Produktionsstatus:[/B] Forschungsstadium, erste Testbelichtungen; Serienreife frühestens 2030
Integration:Fehlende Infrastruktur für Masken und Resists erschwert Skalierung
Kosten: Geringer als ASML, aber mit hohen Risiken und niedriger Ausbeute
Technologischer Vorsprung: ASML ist mindestens 5–10 Jahre voraus.
Ökosystem: ASML bietet komplette Prozessintegration, China muss noch Material- und Maskentechnik aufbauen.
Zuverlässigkeit: ASML-Maschinen sind industriell erprobt, chinesische Systeme sind experimentell.
Grüße Kazuja