Notiz Hintergrundwissen: ASML und Intel geben Einblick in EUV-Lithografie

Lefty220 schrieb:
Liegt vllt daran das Intel's 10nm der 7nm von TSMC überlegen sind.
Wann verstehen die Leute endlich das es nur zahlen sind und nix mit der tatsächlichen Größe zu tun hat.

So lange die den Prozess nicht anständig zum laufen bringen und TSMC schon dann vlt. mit ihrem 5nm-Prozess starten bringt das alles nicht wirklich viel. TSMC bringt jetzt schon bald ihren 7nm+ mit EUV. Von Intels 10nm nicht viel zu sehen.
 
Wen die tatsächlichen Fertigungsgrößen interessieren, sollte Mal auf Golem suchen. Dort gab es vor einiger Zeit Mal einen Artikel, dass die angegebenen Maße seit einiger Zeit der tatsächlichen Fertigungsgrößen entsprechen. Ein Ingenieur hat Mal ein bisschen darüber geplaudert, dass davon vie Marketingsprech ist, worauf sich hier viele Beiträge wohl beziehen.
 
Lightning58 schrieb:
Danke für den Hinweis auf das Video, ich habe zwar nicht alles verstanden, aber faszinierend ist das ganze schon. Hatte da in letzter Zeit irgendwo schon was gelesen, dass z.B. Zeiss und andere deutschen Firmen erst diese Technik bei ASML ermöglichen.
Ja habe vor ca. 10 Jahren als ich bei Zeiss SMT gearbeitet habe den Prototypen der EUVL Einheit gesehen und wie sie die Spiegel fertigen.
 
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Ich lasse das mal hier:


Gleiches Thema, ähnliches Video, etwas anders aufgearbeitet.

Bei Interesse können @Volker oder unsere Community Schnittstelle @SV3N ja mal nen Blick drauf werfen und bei Gefallen die News erweitern.
 
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