Icke-ffm schrieb:
ja das meinte ich ja, wenn Nvidia Umzieht und weiter so wächst werden die Kapazitäten in 3nm irgendwann knapp so das die 5nm umgebaut werden müssen um Nvidia zu befriedigen.
Da wird AFAIU nichts umgebaut.
Das vorhandene Equipment der 5 nm Fab wird für die Fertigung von 3 nm Wafer verwendet. Wo soll da bei einem EUV Stepper das Problem sein andere Masken zu verwenden? Auch bei Rest des Equipments lässt sich AFAIU vieles durch Umprogrammieren erledigen, siehe unten.
Icke-ffm schrieb:
aber nur Apple zieht ausnahmslos weiter.
Auch Apple zieht nicht ausnahmslos weiter.
Aber sehr viel Wafervolumen zieht weiter, auch von Mediatek und Qualcomm. Außerdem will ja Intel mit den CPUs wieder heim.
Das Problem ist, dass TSMC sehr viel an zusätztlichem Volumen bekommt, nicht nur von Nvidia auch die Logik Dies der HBM Stacks von LG Hynix und später von Micron werden bei TSMC gefertigt werden. AFAIU benötigen viele Kunden so oder so Custom Logik Dies für die HBM Stacks. Und die werden überwiegend bei TSMC gefertigt.
Icke-ffm schrieb:
AMD hat gerade erst die Mi355 in 3nm &6nm eingeführt, MI455 soll nur zum Teil 2nm verwenden andere Teil dann wohl auch nicht mehr in 6nm wahrscheinlicher wird wohl 4nm oder eben auch 3nm sein.
Beim IOD der MI450 hängt alles an den HBM 4 Controllern. Wenn es diese IP für 4 nm oder gar N6 gibt, hat AMD eigentlich keinen Grund 3 nm zu verwenden.
Die Diefläche des IODs wird von den XCD vorgegeben.
Icke-ffm schrieb:
IOD Zen6 soll ebenso 3nm werden Epyc dann vermutlich ebenso nur die CCDs sind 2nm und brauchen verhältnismässig wenig wafer da klein und AMD eben lange kein Apple oder NVIDiA ist, aber eben auch am wachsen und noch sind alles was viel Wafer braucht in 6/5/4nm, 6nm wird AMD wohl auslaufen lassen, die frage ist wohin Portierung zu 4nm oder doch 3nm wo mann dann mit Nvidia und andern begrenzt ist.
Bei Ryzen und EPYC gilt, 3 nm für den IOD ergibt nur dann Sinn wenn AMD sehr viel Logik auf den IOD knallt. Die oft genannten 3 nm für den cIOD ergibt nur mit einer NPU oder einer großen GPU wegen AI Sinn.
Beim sIOD gibt es weder GPU noch NPU und da wäre AFAIU 3 nm nicht notwendig. Wenn es hier bei 6 nm bleibt würde es mich nicht überraschen.
Die Fläche in 2 nm die AMD benötigt, ist ordentlich. Wenn der dense CCD monolithisch werden sollte, würde dieser sehr viel Fläche benötigen. Doppelt so viele Kerne und 4 Mal so viel L3 Cache bei 25 % höhere Dichte laut Angaben von TSMC. Falls AMD diesen CCD im 3D-Stacking herstellt sollte und für den Cache N4P verwendet würde, wäre es natürlich weniger. Bei maximal 8 CCDs hat AMD viel Platz im Package für EPYC.
Die Anzahl der Transistoren der classic CCD, Zahlen von TPU:
| Die Size in mm² | Anzahl Transistoren in Milliarden | Zuwachs an Trasistoren | Millionen Transistoren je mm² |
|---|
| Aspen Highland , Zen 2 | 74 | 3,9 | --- | 52,7 |
| Becken Ridge, Zen 3 | 80,7 | 4,15 | 6 % | 51,4 |
| Durango, Zen 4 | 71 | 6,5 | 57 % | 92,9 |
| Eldora, Zen 5 | 70,6 | 8,315 | 28 % | 117,78 |
Die massiv gesteigerte Floating Point Leistung insbesondere mit AVX-512 bei Zen 4 und Zen 5 erforderte einiges zusätzlichen Transistoren. Und der sehr hohe SRAM Anteil im CCD bedeutet, dass AMD die für Prozesse genannten Transistordichten bei weitem nicht erreichen kann. Und so sind die 117,78 MT/mm² des Zen 5 CCDs im Vergleich zu den 150 MT/mm² des Navi 31 GCD fast schon mickrig. Das Navi GCD hatte übrigens mehr IO als das CCD.
Wir wissen nicht wie viel Transistoren AMD gebraucht hat um die ganzen offenen Baustellen von Zen 5 zu schließen. Wir wissen auch nicht welche der schönen neuen Dingen, die in der Pipeline sind, AMD schon in Zen 6 umgesetzt hat.
AMD hat zwei Mal den L3 dichter gepackt und ist bei L2 auf eine andere SRAM-Zelle gewechselt, ob AMD hier noch was rauskitzeln kann?
Icke-ffm schrieb:
4nm da zum 5nm gehört macht in meinen Augen mehr sinn für die Wafer Volumen Produkte, spich GPUs APUs und IODs, sicher wird TSMC 5nm hochrüsten ebenso wie 7nm und gleiches später auch 3nm aber eben auch nur wenn der „veraltete“ Prosess nicht mehr Nachgefragt wird.
Woher kommt der Unsinn, dass die alten Prozesse nicht mehr nachgefragt würden? Die sehr guten Margen und Gewinne von TSMC entstehen, weil TSMC in den abgeschriebenen Fabs mit den abgeschriebenen alten Prozessen viele Wafer produziert. Einfach Mal anstatt der Prozentwerte die absoluten Werte anschauen.
TSMC hat mit 7 nm Wafer im 3 Quartal ca. 3,9 Milliarden USD Umsatz gemacht. Mit 16 nm und 28 nm waren es jeweils ca. 2 Mrd USD. Da TSMC nur volle %-Werte angibt und mit meiner Schätzung des Anteils des Waferumsatzes (85 %) ergibt sich ein Bandbreite von +/- ca. 140 Millionen USD.
Icke-ffm schrieb:
TSMC sagte mal das sie +70% der fúr 7/5/3nm angeschafften werkzeuge weiter verwenden können.
C.C. Wei hat im Q2 Call folgendes gesagt:
Mir gefällt ihr Kommentar, dass wir unseren Wert verkaufen müssen, weil wir bei der N3-Kapazität knapp sind. Das wird noch ein paar Jahre so bleiben, sehr knapp. Und tatsächlich ist auch N5 sehr knapp. Die Nachfrage ist hoch, weil viele unserer KI-Produkte noch in 4-Nanometer sind und wahrscheinlich in den nächsten zwei Jahren auf 3 Nanometer umgestellt werden. In der Zwischenzeit ist die Kapazität bei N5 also immer noch sehr knapp. Bei N3 ist sie sogar noch knapper. Deshalb arbeiten wir hart daran.
Einer der Vorteile von TSMC ist, dass wir über einen GigaFab-Cluster verfügen. So haben wir zwischen N7, N5, N3 und sogar dem zukünftigen N2 für fast jeden Node etwa 85 % bis 90 % gemeinsame Werkzeuge. Das ist zwar nicht kostenlos, aber für TSMC ist es viel einfacher, die Kapazitäten zwischen diesen Nodes anzupassen oder umzuwandeln.
Ich möchte Ihnen heute mitteilen, dass wir die N7-Kapazitäten nutzen, um N5 zu unterstützen, da N5 zu knapp ist. Und dann wandeln wir N5 in N3 um, wie Sie gerade erwähnt haben. Das werden wir auch weiterhin tun.
Und so ist heute die Kapazität unserer Spitzentechnologie sehr knapp, wir definieren sie als N7 und darunter. Angesichts dessen arbeiten wir sehr hart daran, um – um es noch einmal mit meinen Worten zu sagen – die Lücke zwischen Nachfrage und Kapazität zu schließen.
Icke-ffm schrieb:
was sie nicht sagten(logisch) wieviel % der fúr 2nm neu angeschafften Werkzeuge sich auch für 7/5&3nm verwenden lassen denke der anteil der werkzeuge für 2nm die nicht auch genauso für ältere Prozesse verwenden lassen dürften min genauso hoch sein.
TSMC hat in den letzten Jahren für die neuen Nodes immer neue Fabs gebaut. D. h. für den neuen Node wurde zusätzliche Waferkapazität hingestellt. Eine Fab oder Phase wie sie TSMC nennt hat wie gesagt eine Kapazität von ca. 100k Wafer im Quartal.
Bis zum nächsten Herbst nimmt TSMC 4 neue Fabs für N2 in Betrieb. Für A16 kommen noch welche hinzu, so dass es IIRC 7 neue Fabs für den N2 Node werden. Arizona ist nicht dabei. Und für A14 baut TSMC wieder komplett neue Fabs.
Dieses Jahr hat TSMC angekünfigt, dass sie einige ganz alte Fabs stilllegen wollen.
Icke-ffm schrieb:
TSMC hat nicht geschlaffen und hatte gute 2Jahre Zeit umzuplanen, das die neuen Prozesse die alten irgendwann überholen ist normal.
TSMC macht die Gewinne damit, dass sie die abgeschrieben Anlagen der alten Prozesse immer noch auslasten können. D. h., TSMC hat die alten Fabs und die alten Nodes bisher immer weiter betrieben. Was sich geändert hat ist dass TSMC seit 7 nm viel mehr Fabs für einen Node baut. Und es fällt nun schwerer diese erheblich höhere Kapazität dauerhaft auszulasten.
Außerdem war die Halbleiterkrise von 2023 mit dem Absatzeinbruch bei TSMC eine Warnung für TSMC nicht zu viel Kapazität hochzuziehen. Damit das Geschäftsmodell von TSMC weiterhin aufgeht, muss TSMC das Equipment der alten Nodes nun für die nächsten Prozess mit verwenden. Damit kann TSMC zum einen wie bisher das Equipment lange auslasten und zum anderen die Ausgaben für das Equipment für die neuen Nodes drücken.
Icke-ffm schrieb:
Denke somit, das es sehr gut möglich ist das viele der Aktuell für 7/5nm genutzten werkzeuge bereits in soweit getauscht wurden das das umrüsten viel schneller und fexibler geht.
Da die Prozesse 85 bis 90 % gemeinsame Werkzeuge haben wird praktisch nichts getauscht und es wird auch nichts umgerüstet.
Jeder Die hat so oder so seine eigenen Masken und da TSMC so oder so verschiedene Prozessvarianten herstellt, ist das tauschen der Rezepte für TSMC ein übliches Vorgehen.
Icke-ffm schrieb:
so das die Zahl von 100k Wafer je Monat je Werk bei Vollauslastung wohl auch gut 20-50% höher liegen könnten, denn die werden auf die dafúr angeschafften Werkzeuge zum Zeitpunkt der Einführung gelten
Erstens waren es 100k Wafer im Quartal. Aus welchem Grund soll die Waferkapazität einer Fab beim Wechsel auf einen moderneren Node steigen?
Zweitens, so wie ich es verstehe wird kein Equipment neu angeschafft, sondern das vorhandene für den nächsten Prozess verwendet. Die Fabkapazität ergibt sich aus der Fläche im Reinraum. Zeitkritisch ist nicht die Lithografie sondern es ist das Ätzen und der Materialauftrag (CVD, PVD, ...), weshalb sehr viele Maschinen dieser Typen angeschafft werden müssen, damit die Lithografie ausgelastet werden kann.