News Intel fertigt 14-nm-SoCs für Panasonic

Volker

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Im Jahr 2012 noch nahezu undenkbar dehnt Intel die Aktivitäten als Auftragsfertiger von Chips in fortschrittlicher Technologie weiter aus. Heute wurde mit Panasonic eine Übereinkunft erzielt, so dass Intel in Zukunft SoCs in 14 nm für Panasonic herstellen wird.

Zur News: Intel fertigt 14-nm-SoCs für Panasonic
 
Haldi schrieb:
Was stellt Panasonic denn für Chips her?
es _könnte_ hiermit zu tun haben.

Zitat daraus: "Plans for the new company include switching to a fabless business model, creating an optimal management structure for the business, integrating open innovation that utilizes outsourcing, and exerting the synergy of both Fujitsu and Panasonic and the resources they possess. In addition, the new company will place priority in technological areas with high growth potential such as cloud computing, big-data, and optical networks as well as in the fields of medical equipment and energy."
 
Zuletzt bearbeitet:
Intel hatte eine Fab nicht ganz hochgefahren, weil nicht genug eigener Bedarf vorhanden war? Das ist schon eine Hausnummer.

Aber wie es in der menschlichen Welt immer ist: Wer hoch steigt, fällt auch tief. Intel wird nicht ewig auf so einer Wolke schweben.
 
Auch wenn intel miliarden reinsteckt. Bekommen sie die Maschinen von ASML. Mich würde es wundern wenn ASML seine Kunden verarsch.n würde... die bekommen die selben Geräte.. nur intel modiziert sie, damit sie einige teile etwas feiner auflösen können. Wenn die Intel exkluivgeräte verkaufen würden. Hätten sie doch nur intel als kunden.
 
Hito schrieb:
Sind doch eh keine echten 14nm - Intel bescheisst sich nur selbst mit der Angabe.

http://www.electronicsweekly.com/mannerisms/general/the-intel-nanometre-2013-02/

machen sie mit 14nm auch so - ist glaub echtes 18nm mit den Eigenschaften von IndustrieStandard 20nm. Genauer Recherchieren kann das jeder selbst.^^

Genauer recherchieren wäre alles andere als fehl am Platz gewesen. Es hätte sogar schon gereicht die Kommentare unter dem Artikel zu lesen.

The drawn gate length is not really a relevant measure any more and in any case has never been the official definition of the node. It is generally used to set the performance of the transistor, shorter is faster whilst longer is slower but less leakage. The move to FinFETs allowed the performance and density of the next node to be achieved without going to shorter gate lengths which would have excessive leakage.

Intel 45nm SRAM cell – 0.346um^2
Intel 32nm SRAM cell – 0.171um^2
Intel 22nm SRAM cell – 0.092um^2 (Tri-Gate)

TSMC 40nm SRAM cell – 0.290um^2
TSMC 28nm SRAM cell – 0.127um^2
TSMC 20nm SRAM cell – 0.090um^2

FinFET (Tri-Gate) und Planar in einen Topf zu werfen macht keinen Sinn. Die offiziellen Bezeichnungen der Prozesse in nm beschreiben heute in erster Linie Charakteristiken wie die Transistordichte in Relation zu älteren Planar-Prozessen. Das gilt auch für 16FF von TSMC und 14FF von Samsung/GF.

Dazu siehe auch:
http://globalfoundries.com/newsroom...ering-of-14nm-finfet-semiconductor-technology
The platform taps the benefits of three-dimensional, fully depleted FinFET transistors to overcome the limitations of planar transistor technology, enabling up to 20 percent higher speed, 35 percent less power and 15 percent area scaling over industry 20nm planar technology.
 
Zuletzt bearbeitet:
Luffy schrieb:
Wenn die Intel exkluivgeräte verkaufen würden. Hätten sie doch nur intel als kunden.

Dir ist aber auch bewusst, dass man Industriemaschinen entsprechend den eigenen Spezifikationen fertigen lassen kann? (Das kostet dann eben etwas mehr...) Und entscheidend sind auch die "Rezepte", mit denen Anlagen betrieben werden.
 
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