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NewsIn alten Fabriken: TSMC will EUV-Pellicles selbst produzieren
Das mit dem Entrücken der Konkurrenz kann funktionieren. Ich finde es ist auch gut investiert, denn alles das die Ausbeute steigert oder die Kosten senkt ist Kerngeschäft.
Mal ganz knallhart ausgedrückt, TSMC hat inzwischen erheblich mehr Ahnung vom Betrieb von EUV-Anlagen als ASML. Also kennt TSMC die Anforderungen besser als ASML.
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@Syrato Ok - bisher dachte ich, dass die kleinen Strukturen das beeindruckende an EUV waren - aber die beschießen winzige Zinn-Tropfen, die mit 360km/h unterwegs sind, mit zwei Lasern nacheinander, einer 5kW, der andere 25kW, und das 50.000 Mal pro Sekunde? Und das daraus resultierende Licht wird nicht auf statische Spiegel, sondern auf Fassetten-Spiegel mit hunderten individuell gesteuerten Segmenten gelenkt?
Das Puzzle um die 9-Stelligen Preisschilder setzt sich langsam zusammen...
Das finde ich auch krass. Schließlich sitzen die Staubkörner doch da schon direkt "auf" der Oberfläche. Dass die da schon so weit aus dem Fokus raus sind, hätte ich nicht gedacht.
Bright0001 schrieb:
aber die beschießen winzige Zinn-Tropfen, die mit 360km/h unterwegs sind
Schließlich sitzen die Staubkörner doch da schon direkt "auf" der Oberfläche. Dass die da schon so weit aus dem Fokus raus sind, hätte ich nicht gedacht.
wie das bei den euv pellicels aussieht weiß ich nicht, die der normalen haben aber nen alurahmen der da auf die maske geklebt wird wo oben dann die folie drüber gespannt ist. exakte maße hab ich nich im kopf aber würde da auf so 5-8mm abstand tippen.
der rahmen hat dann noch paar löscher drin zum ausgleich von luftdruck, ansonsten hast da beim transport eventuell die folie dann an der maske kleben oder nen Luftballon. und beides will man nicht, durch den winkel würde sich dann das licht wieder anders brechen.
wie das bei den euv pellicels aussieht weiß ich nicht, die der normalen haben aber nen alurahmen der da auf die maske geklebt wird wo oben dann die folie drüber gespannt ist. exakte maße hab ich nich im kopf aber würde da auf so 5-8mm abstand tippen.
Klingt logisch. Du willst die Folie nicht auf der Maske sitzen haben, sonst kriegste sie u.U. nicht rückstandsfrei wieder ab. Schon gar nicht, wenn der Laser die mit der Zeit verflüssigt. Und du verteilst die Laser-Last auf eine größere Fläche der Folie, je mehr Abstand sie hat.
nur das da kein laser is...das ist licht...in bestimmten wellenlängen...euv war glaub 13,5nm in verwendung. vorher wurde alles mit tricks von 193nm licht beleuchtet, den gibts auch als laser aber mit nem laser beleuchtet man normal keinen wafer, ders zu fokusiert...
laserpointer kannst teils ja auch noch fokusieren aber bring den mal dazu nen 5" fläsche gleichmäßig auszuleuchten...da brauchst schon nen sehr dicken laser das auf der fläsche noch genug energie ankommt.
die laser werden bei euv nur in der beleuchtungsquelle genutzt um die zinn tröpfschen "explodieren" zu lassen, das dabei entstehende licht wird dann zum beleuchten genutzt.
an der stelle möchtest du halt die energie des lasers schön fokusiert auf enen punkt das der die tropfen trifft...und das ganze viele male pro sekunde und wenn du einmal danebenschießt kannst die strahlenquelle zum altmetall geben.
beim auto wäre das so das der motor totalschaden hat wenn er ein einziges mal nur 99,9% des gas luft gemisches zündet und nicht 100%.
