Kitakami: Toshiba Memory startet Bau der neuen 3D‑NAND‑Fabrik

Wie geplant hat Toshiba Memory mit dem Bau einer neuen Fabrik für 3D-NAND im Nordosten Japans begonnen. Am Standort Kitakami City in der Iwate-Präfektur soll die K1 genannte Anlage voraussichtlich im Herbst 2019 fertig sein. Toshiba spricht von einer der fortschrittlichsten Halbleiterfabriken der Welt.

Die K1-Fabrik soll zudem die größte des Speicherherstellers Toshiba Memory sein, der aus dem Verkauf der Speichersparte von Toshiba entstanden ist. In Kitakami soll ergänzend zur Fab 6 in Yokkaichi der BiCS Flash genannte 3D-NAND gefertigt werden, den Toshiba Memory gemeinsam mit Western Digital entwickelt. Bezüglich der geplanten Investitionen durch Western Digital würden noch Gespräche geführt, so Toshiba Memory.