Deutscher Zukunftspreis: Forscher-Team um Zeiss gewinnt für EUV-Lithografie

Volker Rißka
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Deutscher Zukunftspreis: Forscher-Team um Zeiss gewinnt für EUV-Lithografie
Bild: Zeiss

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier hat ein Forscherteam von Zeiss, Trumpf und dem Fraunhofer Institut mit dem Zukunftspreis für ihre Entwicklung der EUV-Lithografie ausgezeichnet. Ohne die Technik der deutschen Entwickler könnte ASML, der einzige EUV-Ausstatter, die Belichtungssysteme für Halbleiterfabriken nicht bauen.

Optik von Zeiss ist für EUV von ASML essentiell

Für ihr Projekt „EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter“ zeichnete der Bundespräsident das Experten-Team um Dr. Peter Kürz, Zeiss Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), Dr. Michael Kösters, Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, und Dr. Sergiy Yulin, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena, mit seinem Preis für Technik und Innovation aus.

Während in der IT-Welt EUV bereits seit Jahren ein gängiger Begriff ist, zeigt der erst Ende 2020 ausgegebene Zukunftspreis für diese Schlüsseltechnologie, dass in der Gesellschaft erst nach und nach deren Nutzen klar und bekannter wird. Das Gewinner-Team hat einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie geleistet. Das Resultat ist eine durch über 2.000 Patente abgesicherte Zukunftstechnologie, die Basis für die Digitalisierung unseres Alltags ist und Anwendungen wie Autonomes Fahren, 5G, Künstliche Intelligenz und weitere zukünftige Innovationen ermöglicht.

Das Experten-Team vor dem weltweit stärksten gepulsten Industrielaser
Das Experten-Team vor dem weltweit stärksten gepulsten Industrielaser (Bild: Zeiss)

Trumpf liefert mit dem weltweit stärksten gepulsten Industrielaser eine Schlüsselkomponente für die Belichtung der Wafer. Es gibt keine wirtschaftliche Alternative zu diesem Laser, um das für die EUV-Lithographie benötigte Licht zu erzeugen.

Güte und Form des Beleuchtungssystems sowie das Auflösungsvermögen der Projektionsoptik von Zeiss bestimmen darüber, wie klein Strukturen auf Mikrochips sein können. Wesentliche Innovationen stecken daher in den Spiegeln, die in das Optik-System eingesetzt werden. Da selbst kleinste Unregelmäßigkeiten zu Abbildungsfehlern führen, wurde für die EUV-Lithographie der weltweit „präziseste“ Spiegel entwickelt. Fraunhofer fungierte als wichtiger Forschungspartner bei der anspruchsvollen Beschichtungstechnik für die großflächigen Spiegel.

Unternehmen spenden Preisgeld

Der Deutsche Zukunftspreis wird seit 1997 jährlich vergeben, gehört zu den wichtigsten Wissenschaftsauszeichnungen in Deutschland und ist mit 250.000 Euro dotiert. Das Preisgeld spenden Zeiss und Trumpf für gemeinnützige Zwecke.