News : ASML macht gute Fortschritte bei EUV-Lithografie

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In einer IBM-Forschungseinrichtung hat eine Lithografiemaschine von ASML mit dem zukünftigen Standard der „extremen“ ultravioletten Lichtquelle (EUV) in 24 Stunden 637 Wafer erfolgreich belichtet. Damit wurde das Ziel von 500 Wafern in 24 Stunden, welches für Ende des Jahres ausgegeben wurde, bereits übertroffen.

Vor zwei Wochen war ASML als einer der größten Lieferanten der Welt für Belichtungsmaschinen im Rahmen der Bekanntgabe der Quartalszahlen noch verhalten optimistisch, dass diese Grenze bis zum Jahresende geknackt werden könne. Gleichzeitig wurde seinerzeit das Ziel angepeilt, bis 2016 1.500 Wafer pro Tag mit dem neuen Verfahren belichten zu können. Als wirtschaftlich sinnvoll gilt es jedoch erst, wenn eine Belichtungsmaschine mehr als 110 Wafer pro Stunde schafft. Frühestens Ende 2016 ist deshalb mit einer kleinen Serienproduktion zu rechnen.

ASML hat nach eigenen Angaben bisher sechs EUV-Systeme vom Typ NXE:3300B an Hersteller ausgeliefert und arbeitet mit diesen zusammen an der Optimierung der Prozesse. Dabei wurden bereits einige Verbesserungsmöglichkeiten gefunden, die in das nächste Update, die NXE:3350B, einfließen. Interessenten haben bereits ihre laufenden Bestellungen, die für dieses Jahr vorgesehen waren, angepasst, um anstelle der NXE:3300B unmittelbar die verbesserte Belichtungsmaschine NXE:3350B im nächsten Jahr zu erhalten.

ASMLs EUV-Systeme
ASMLs EUV-Systeme